第186章N-漂移层
高能离子注入这是对现代化集成芯片的要求
对于他来说，目前只要能将铝离子注入到碳化硅晶体中形成一个过渡层就足够了
而且他用的技术也并非纯正的离子注入，正如之前有弹幕说的
他使用的是离子掺杂，而且是离子掺杂中的‘渗透掺杂法’
第186章N-漂移层
这个路人过于冷静：第394章 393.别哭，我带你出去玩 发表于 2022-11-20 00:00:00高能离子注入这是对现代化集成芯片的要求
霍格沃茨万事皆三：第一千五百八十六章 三分之一杯柠檬汁，再加上三分之二的可乐（大结局） 发表于 2021-11-11 00:06:25对于他来说，目前只要能将铝离子注入到碳化硅晶体中形成一个过渡层就足够了
我的前任都是气运之女：第三百五十章 合作 发表于 2021-07-31 22:39:25而且他用的技术也并非纯正的离子注入，正如之前有弹幕说的
蚕枝：我们仨 发表于 2021-07-08 05:58:00他使用的是离子掺杂，而且是离子掺杂中的‘渗透掺杂法’
快穿白月光是如何练成的：大结局 发表于 2022-06-28 19:39:30